洗浄・改質装置UV CLEANING AND MODIFYING UNIT
洗浄・改質装置
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短波長紫外線による洗浄、改質は当社独自の低圧水銀ランプと照射装置による高出力照射技術により、高品質かつ高速処理を実現、最先端の紫外線洗浄、改質をご提供いたします。
用途一覧
洗浄・改質ランプ
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ランプは、185nmと254nmの波長を効率よく放射。
安定してムダの無い高品質な洗浄能力と高い表面改質能力を実現するため、形状、出力別に様々なラインナップをご用意しております。
卓上型紫外線洗浄・改質装置 OC2506
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- 特長:
- コンパクト&ローコストのバッチ式
真空系、廃液処理、電気工事などの付帯設備不要
- 用途:
- 各種ガラス、レンズ、シリコンウェハなどの洗浄
接着、塗装、印刷の前処理(密着性向上)など
- 仕様:
- 直管タイプ25w×6灯、
- 有効照射エリア:
- 300mm×250mm
冷却は空冷、オゾン分解触媒ボックス付き
電源 AC100V 4.7A 50/60Hz切替
卓上型紫外線洗浄・改質装置 OC1801C10X
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- 特長:
- コンパクト&ローコストのバッチ式
真空系、廃液処理、電気工事などの付帯設備不要
- 用途:
- 各種ガラス基板、レンズ、シリコンウェハなどの洗浄
接着、塗装、印刷の前処理(密着性向上)など
- 仕様:
- グリッド管タイプ180w×1灯
有効照射エリア 200mm×200mm
冷却は空冷、オゾン分解触媒組込み
電源 AC100V 5A 50/60Hz切替
エキシマ紫外線照射装置
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- 特長:
- 高いエネルギー(172nm)、
単一波長、低温照射、瞬間点灯消灯が可能、
水銀レスで環境に優しい
- 用途:
- ガラス、フィルムの洗浄・改質
ガラス、フィルムの貼り合せ時の強度、密着性向上
ウェハの洗浄・改質、レジスト剥離
- 仕様:
- 照射サイズ、ランプ灯数などお客様のご要望に合わせて対応いたします
装置化の応用 コンベア装置等
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- 特長:
- 対象ワークに合わせた自由設計で様々な搬送システムに対応した量産型照射装置
- 用途:
- ガラス基板、レンズ、シリコンウェハなどの洗浄
接着、塗装、印刷の前処理(密着性向上)など
- 仕様:
- 当社オリジナルランプ、照射器、電源を組み込んだ搬送機構付きのカスタム装置
照射サイズ、ランプ灯数などお客様のご要望に合わせて対応いたします。
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